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基礎(chǔ)信息Product information
產(chǎn)品名稱:

高溫退火爐

產(chǎn)品型號:

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

所在地:北京市

更新日期:2023-08-14

產(chǎn)品簡介:

目前高溫退火爐加熱大都為管式爐或馬弗爐,原理為加熱絲或硅碳棒對爐體加熱,加熱與降溫速度慢,效率低下,也無法實現(xiàn)溫度的精度高測量,加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象,華測儀器開發(fā)了一種可實現(xiàn)精度高,高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置,在高速加熱高速冷卻時,具有良好的溫度分布。

產(chǎn)品特性Product characteristics
品牌華測

一、高溫退火爐設(shè)備優(yōu)勢

高速加熱與冷卻方式

高能量的紅外燈和鍍金反射方式允許高速加熱到高溫。同時爐體可配置水冷系統(tǒng),增設(shè)氣體冷卻裝置,可實現(xiàn)快速冷卻。

溫度高的精度控制

過紅外鍍金聚焦爐和溫度控制器的組合使用,可以精que控制樣品的溫度(遠比普通加溫方式)。此外,冷卻速度和保持在任何溫度下可提供高的精度。

不同環(huán)境下的加熱與冷卻

加熱/冷卻可用真空、氣氛環(huán)境、低溫(高純度惰性氣體靜態(tài)或流動),操作簡單,使用石英玻璃制成。紅外線可傳送到加熱/冷卻室。

二、高溫退火爐性能優(yōu)勢

可勻速、階梯(升降溫)、循環(huán)沖擊,真空、氣氛等多種的加熱方式。

采用移相觸發(fā)技術(shù),*可實現(xiàn)控制精度波動0.5C以內(nèi),溫控精度高。

加熱速度快,并且同時提供了材料的多種性測試環(huán)境。

三、應用范圍

1.電子材料

半導體用硅化合化的PRA(加熱后急速冷卻)

熱源薄膜形成

激活離子注入后

硅化物的形成

2.陶瓷與無機材料

陶瓷基板退火爐

玻璃基板退火爐

陶瓷張力、撓曲試驗退火爐

3.鋼鐵和金屬材料

薄鋼板加熱過程的數(shù)值模擬

爐焊接模擬

高真空熱處理(1000℃以下)

大氣氣體熔化過程

壓力下耐火鋼和合金的熱循環(huán)試驗爐

4.復合材料

耐熱性評價爐

無機復合材料熱循環(huán)試驗爐

5.其它

高溫拉伸壓縮試驗爐

分段分區(qū)控制爐

溫度梯度爐

爐氣分析

超導陶瓷退火爐




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